Podłoże 4H-SiC typu P o grubości 2 ~ 6 cali i odchylone od kąta 4°

Krótki opis:

‌Podłoże 4H-SiC typu P o kącie odchylenia 4°‌ to specyficzny materiał półprzewodnikowy, gdzie „kąt odchylenia 4°” odnosi się do kąta orientacji kryształu płytki wynoszącego 4 stopnie od kąta, a „typ P” odnosi się do rodzaj przewodności półprzewodnika. Materiał ten ma ważne zastosowania w przemyśle półprzewodników, zwłaszcza w dziedzinie energoelektroniki i elektroniki wysokiej częstotliwości.


Szczegóły produktu

Tagi produktów

Podłoża 4H-SiC firmy Semicera o wymiarach 2–6 cali i odchylone od kąta 4° typu P 4H-SiC zostały zaprojektowane tak, aby spełniać rosnące potrzeby producentów wysokowydajnych urządzeń zasilających i RF. Orientacja pod kątem 4° zapewnia zoptymalizowany wzrost epitaksjalny, co czyni to podłoże idealną podstawą dla szeregu urządzeń półprzewodnikowych, w tym MOSFET, IGBT i diod.

To podłoże 4H-SiC typu P o przekątnej 2 ~ 6 cali i odchylone od 4° ma doskonałe właściwości materiałowe, w tym wysoką przewodność cieplną, doskonałe parametry elektryczne i wyjątkową stabilność mechaniczną. Orientacja pod kątem pomaga zmniejszyć gęstość mikrorurki i zapewnia gładsze warstwy epitaksjalne, co ma kluczowe znaczenie dla poprawy wydajności i niezawodności końcowego urządzenia półprzewodnikowego.

Podłoża 4H-SiC firmy Semicera o wymiarach 2–6 cali i odchyleniu od kąta 4° typu P 4H-SiC są dostępne w różnych średnicach, od 2 cali do 6 cali, aby spełnić różne wymagania produkcyjne. Nasze podłoża są precyzyjnie zaprojektowane, aby zapewnić jednolite poziomy domieszkowania i wysokiej jakości charakterystykę powierzchni, zapewniając, że każda płytka spełnia rygorystyczne specyfikacje wymagane w zaawansowanych zastosowaniach elektronicznych.

Zaangażowanie firmy Semicera w innowacje i jakość gwarantuje, że nasze podłoża 4H-SiC typu P o wymiarach 2–6 cali i odchylone o 4° od kąta zapewniają stałą wydajność w szerokim zakresie zastosowań, od elektroniki mocy po urządzenia wysokiej częstotliwości. Produkt ten stanowi niezawodne rozwiązanie dla następnej generacji energooszczędnych, wysokowydajnych półprzewodników, wspierając postęp technologiczny w takich branżach jak motoryzacja, telekomunikacja i energia odnawialna.

Normy związane z rozmiarem

Rozmiar

2-calowe

4-calowy

Średnica 50,8 mm ± 0,38 mm 100,0 mm+0/-0,5 mm
Orentacja powierzchni 4°w kierunku<11-20>±0,5° 4°w kierunku<11-20>±0,5°
Podstawowa długość płaska 16,0 mm ± 1,5 mm 32,5 mm ± 2 mm
Dodatkowa długość płaska 8,0 mm ± 1,5 mm 18,0 mm ± 2 mm
Podstawowa orientacja płaska Równolegle <11-20>±5,0° Równolegle do<11-20>±5,0c
Orientacja płaska wtórna 90°CW od strony pierwotnej ± 5,0°, krzem stroną skierowaną do góry 90°CW od strony pierwotnej ± 5,0°, krzem stroną skierowaną do góry
Wykończenie powierzchni C-Face: Poler optyczny, Si-Face: CMP C-Face: OpticalPolish, Si-Face: CMP
Krawędź wafla Fazowanie Fazowanie
Chropowatość powierzchni Si-Face Ra<0,2 nm Si-Face Ra<0,2 nm
Grubość 350,0±25,0um 350,0±25,0um
Polityp 4H 4H
Doping Typ p Typ p

Normy związane z rozmiarem

Rozmiar

6-calowy
Średnica 150,0 mm+0/-0,2 mm
Orientacja powierzchni 4°w kierunku<11-20>±0,5°
Podstawowa długość płaska 47,5 mm ± 1,5 mm
Dodatkowa długość płaska Nic
Podstawowa orientacja płaska Równolegle do <11-20>±5,0°
Orientacja płaska wtórna 90°CW od strony pierwotnej ± 5,0°, krzem skierowany do góry
Wykończenie powierzchni C-Face: Poler optyczny, Si-Face:CMP
Krawędź wafla Fazowanie
Chropowatość powierzchni Si-Face Ra<0,2 nm
Grubość 350,0±25,0μm
Polityp 4H
Doping Typ p

Ramana

Podłoże 4H-SiC typu P o średnicy 2–6 cali i odchyleniu od kąta 4° – 3

Krzywa kołysania

Podłoże 4H-SiC typu P o średnicy 2–6 cali i odchyleniu od kąta 4° – 4

Gęstość dyslokacji (trawienie KOH)

Podłoże 4H-SiC typu P o średnicy 2–6 cali i odchyleniu od kąta 4° – 5

Obrazy trawienia KOH

Podłoże 4H-SiC typu P o średnicy 2–6 cali i odchyleniu od kąta 4° – 6
Płytki SiC

  • Poprzedni:
  • Następny: