Wprowadzenie nośnika waflowego
KATEGORIA PRODUKTÓW
▶System nośników wafli do procesów PECVD i TALOX
• Łódź grafitowa PECVD i TALOX (M4~M12)
• Pionowa łódź SM (M4, M6)
• Implant i prysznic Część grafitowa (M4~M6)
• Taca C/C i powłoka ceramiczna
• Metalowa taca RIE i powłoka ceramiczna
• Uszczelnienie próżniowe: O-ring i SQ-Ring
▶Proces transferu teksturowania i trawienia na mokro
• Nośnik lub kaseta LSC H (M4~M12)
• Nośnik lub kaseta LSC V (M4~M12)
• Nośnik lub kaseta ASC (M4, M6)
• W/F Nośnik i pudełko do przechowywania (M4~M12)
• Seria kół transportowych (rolek).
▶Nośnik ogniw słonecznych i nośnik metalu
• Nośnik TRC lub kaseta (M4~M12)
• Magazynek (z PASEM)
ŁÓDŹ GRAFITOWA (typ H)
19P6-216CT (WF M4~M12)
ŁÓDŹ GRAFITOWA (typ H)
21P6-240CT WF M4~M12)
ŁÓDŹ GRAFITOWA (typ H)
23P7-308CT(W/F M4~M12)
ŁÓDŹ GRAFITOWA (typ H)
22P/7-294TP (W/F M4~M12)
ŁÓDŹ GRAFITOWA (typ H)
W182-22P7-294CT (W/F M12)
W182-21P6-240CT (z M12)
WÓZEK WF I SKRZYNKA DO PRZECHOWYWANIA (~M12)
TACA C/C lub NOŚNIK (M4~M10)
TACA C/C lub NOŚNIK (M4~M10)
ŁÓDŹ PIONOWA (SM) M6
NOŚNIK LSC-H (~M12)
NOŚNIK LSC-V (~M12)
PRZEWOŹNIK ASC (~M6)
PRZEWOŹNIK TRC (~M12)
PRZEWOŹNIK TRC (~M12)
ŁÓDŹ GRAFITOWA (M12)
System nośników płytek do procesu PECVD
▶ ŁÓDŹ GRAFITOWA (zaprojektowana przez CT) Proces M10/M12
• SPECJALNA KONCEPCJA KONSTRUKCYJNA
▶ ŁÓDŹ GRAFITOWA (zaprojektowana przez CT) Proces M4/M6
▶ Części akcesoriów do ŁODZI
▶ ŁÓDŹ PIONOWA – PŁYTKA 161,7 mm
▶ ŁÓDŹ PIONOWA - PŁYTKA 166mm
▶ ŁÓDŹ PIONOWA – 161,7 mm, PŁYTKA 166 mm
Nośnik ogniw słonecznych i metalowy nośnik TRC
TYP: Automatyka
ROZMIAR WAFLA: ① 156×156 MM ② 156,75×156,75 MM
③161,7x161,7MM ④166x166MM
⑤ 180×180 mm ⑥ 210×210 mm
ZASTOSOWANIE: Carry (kaseta)
POJEMNOŚĆ: 100 arkuszy
ROZSTAW: 4,76 MM/5,953 mm/6,35 mm
WYMIARY: Około 559×220×220MM
Około 712 × 260 × 260 mm
ZALETY: Atmosfera
MATERIAŁ: PŁOMIEŃ, BELKA BOCZNA-Aluminium (anodowane)
PŁYTA BOCZNA-POM (antystatyczna)
Osłona belki dolnej-EPDM/PU/VITON (ASE)