Pozioma płyta łodzi z węglika krzemu

Krótki opis:

Semicera dostarcza łodzie waflowe, posiadaczoraz niestandardowe nośniki płytek do konfiguracji pionowej/kolumnowej i poziomej. Zaawansowana ceramika zapewnia doskonałą odporność na ciepło i trwałość plazmy, jednocześnie redukując cząsteczki i zanieczyszczenia. Węglik krzemu klasy półprzewodnikowej (SiC) zapewnia również wytrzymałość w wysokich temperaturach nośnikom płytek o dużej pojemności.


Szczegóły produktu

Tagi produktów

Przedstawiamy naszą najnowocześniejszą poziomą płytkę łodziową z węglika krzemu, starannie zaprojektowaną do zastosowań związanych z przetwarzaniem płytek w przemyśle półprzewodników. Wykonana z najlepszego węglika krzemu, nasza pozioma płyta łodzi wyróżnia się doskonałymi właściwościami termicznymi, odpornością chemiczną i wytrzymałością mechaniczną. Idealna do procesów wysokotemperaturowych, ta płyta do łodzi została zaprojektowana tak, aby zapewniać wyjątkową wydajność, zapewniając precyzję i wydajność w każdym zastosowaniu.

Kluczowe funkcje

 

Wyjątkowa trwałość:Wykonane z węglika krzemu o wysokiej czystości, nasze płyta łodzizostał zaprojektowany tak, aby wytrzymać ekstremalne temperatury do1600°C, oferując niezrównaną trwałość i żywotność.

Jednolity rozkład ciepła:Przewodność cieplna węglika krzemu zapewnia równomierny rozkład ciepła na płycie, co ma kluczowe znaczenie dla utrzymania spójności procesu i osiągnięcia wysokiej jakości produkcji płytek.

Odporność chemiczna:Odporna na żrące chemikalia i trudne warunki, nasza płyta łodzi zachowuje integralność i wydajność nawet w najbardziej wymagających zastosowaniach związanych z przetwarzaniem półprzewodników.

Wysoka wytrzymałość mechaniczna:Solidna konstrukcja naszegopłyta łodzigwarantuje doskonałą wytrzymałość mechaniczną i odporność na zużycie, zmniejszając ryzyko uszkodzeń i konieczność częstych wymian.

Aplikacje:

NaszPozioma płyta łodzi z węglika krzemujest idealny do szerokiej gamy procesów wysokotemperaturowych w produkcji półprzewodników, w tym między innymi do procesów dyfuzji, utleniania, implantacji jonów i procesów CVD.Jego konstrukcja i materiały zapewniają, że może spełnić precyzyjne wymagania przetwarzania płytek, co czyni go niezbędnym elementem linii produkcyjnych półprzewodników.

O nas

 

Miejsce pracy

7c9c147e73e18bfa00cfb37ebbf58dc(1)
6(1)
Dzień 4

Magazyn

Dzień 8

Nasz warsztat

Dzień 10
Dzień 18
Dzień 15
Dzień 20

  • Poprzedni:
  • Następny: